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晶能光電:大尺寸硅襯底LED技術(shù)的最新進(jìn)展

時(shí)間:2013-06-17 來源: 點(diǎn)擊:1103

6月10日,在廣州舉行的2013年新世紀(jì)LED峰會(huì)外延芯片技術(shù)及設(shè)備材料最新趨勢專場中,晶能光電硅襯底LED研發(fā)副總裁孫錢博士向與會(huì)者做了題為“硅襯底氮化鎵大功率LED的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”的報(bào)告,與同行一道分享了硅襯底大功率LED研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化和大尺寸硅襯底LED技術(shù)的最新進(jìn)展。

晶能光電硅襯底LED研發(fā)副總裁孫錢博士

  孫錢博士介紹,Haitz定律追求的是高性價(jià)比LED。市場需要的是一條追隨和突破Haitz定律的技術(shù)路線,它要有更大的襯底晶圓、更低的芯片工藝成本、更高的光效、更高的工作電流密度以及單位芯片面積更高的出光功率。硅襯底LED技術(shù)或?qū)⑹亲罾硐氲倪x擇。

  繼2012年6月12日發(fā)布硅襯底大功率LED芯片量產(chǎn)以來,在孫錢博士帶領(lǐng)的團(tuán)隊(duì)的的努力下,晶能光電取得了大步的“芯”跳躍,硅襯底大功率LED外延生產(chǎn)水平可達(dá)到同爐外延片波長總體在7-8nm,爐與爐之間波長重復(fù)性穩(wěn)定在±2nm,同時(shí)片內(nèi)波長STD約1.3nm且翹曲度小。外延水平的提升的同時(shí),硅襯底大功率LED芯片性能得到了飛速提升。目前,45mil芯片量產(chǎn)水平裸芯光強(qiáng)500mW,平均電壓2.9-3V,反向漏電流小于0.1uA;封裝成冷白光效可達(dá)到140lm/W@350mA,性能與國際一流大廠大功率LED芯片水平相當(dāng)。55mil 芯片光效更可達(dá)到150lm/W@350mA,比去年提升幅度近20%。同時(shí),硅襯底大功率LED芯片在900mA電流,55℃下老化1800小時(shí)無光衰,顯示了良好的可靠性。

  孫錢博士同時(shí)介紹了6寸硅襯底大功率LED研發(fā)的最新進(jìn)展。據(jù)介紹,晶能光電已開發(fā)出的6寸硅襯底氮化鎵基LED的外延及芯片工藝技術(shù)制造的45mil芯片光效已達(dá)到125lm/W,并且將于明年實(shí)現(xiàn)6寸硅襯底45mil LED芯片的批量生產(chǎn),光效達(dá)140lm/W以上。

  晶能光電是全球硅襯底LED技術(shù)和產(chǎn)業(yè)化的引領(lǐng)者。硅襯底大功率LED芯片投放市場以來,其芯片性能進(jìn)步神速,市場反響強(qiáng)烈,優(yōu)良的可靠性和良好的性價(jià)比得到越來越多客戶的認(rèn)可。在本次光亞展中,運(yùn)用硅襯底大功率LED芯片的硅襯底模組首次亮相。硅襯底模組以3.5元/W、質(zhì)量五年的高性價(jià)比受到了同行的廣泛關(guān)注。

  【關(guān)于孫錢博士】

  2009年獲美國耶魯大學(xué)博士學(xué)位,榮獲耶魯工學(xué)院最高獎(jiǎng)和國家優(yōu)秀自費(fèi)留學(xué)生獎(jiǎng)學(xué)金。

  2011年入選中組部首批國家“青年千人計(jì)劃”,晶能光電有限公司硅襯底氮化鎵LED研發(fā)副總裁,帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)出硅襯底氮化鎵基垂直結(jié)構(gòu)大功率LED的外延及芯片技術(shù),并于2012年6月在全球率先量產(chǎn)硅襯底上GaN基大功率LED,入選國際半導(dǎo)體照明2012年度新聞。

  十多年來一直從事氮化物半導(dǎo)體材料生長與器件制備的研發(fā),包括納米多孔GaN的低成本制備及其應(yīng)用,相關(guān)專利成果已許可給國際某LED廠家用于提高LED產(chǎn)品的光效。迄今為止共發(fā)表近50篇SCI收錄的學(xué)術(shù)論文,總引用逾430次,參與編寫了英文專著一章,曾多次應(yīng)國際會(huì)議邀請(qǐng)作特邀報(bào)告,應(yīng)邀為多家國際一流學(xué)術(shù)期刊審稿人,擁有多項(xiàng)美國和中國發(fā)明專利。目前作為負(fù)責(zé)人承擔(dān)國家科技部863計(jì)劃課題等科研任務(wù)。

  【關(guān)于硅襯底大功率LED芯片】

  晶能光電硅襯底大功率LED藍(lán)光芯片創(chuàng)造性地使用硅代替藍(lán)寶石或碳化硅作為襯底制造氮化鎵基LED器件,結(jié)合了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高效GaN外延技術(shù)和芯片技術(shù),是目前全球唯一商品化的硅襯底大功率產(chǎn)品。具有完整的自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù),產(chǎn)品可銷往國際市場。

  硅襯底大功率LED芯片可廣泛應(yīng)用于便攜式照明、LCD背光、戶內(nèi)照明和戶外照明。目前已經(jīng)成功應(yīng)用于路燈、球泡燈、手電筒、礦燈頭燈等室內(nèi)外中高端照明產(chǎn)品。具有以下特點(diǎn):

  1、采用銀反射鏡電極,電流分布更均勻,可用大電流驅(qū)動(dòng)。

  2、硅襯底比藍(lán)寶石襯底散熱好。

  3、具有朗伯發(fā)光形貌,白光出光均勻,容易二次配光。

  4、打線少,可靠性高。

  5、可采用導(dǎo)電銀膠,焊錫或共晶焊固晶。

  6、硅襯底LED芯片單面出光,且分布均勻,適合做熒光粉直涂的直接白光芯片,降低封裝成本。

  7、適合于陶瓷基板封裝,使大功率封裝容易自動(dòng)化。


  【關(guān)于晶能光電】

  晶能光電是由金沙江創(chuàng)業(yè)投資基金牽頭,聯(lián)合國際頂尖級(jí)創(chuàng)業(yè)投資基金Mayfield fund,AsiaVest,IFC等共同投資設(shè)立的,全球第一家也是目前唯一一家專業(yè)從事硅襯底GaN基LED外延材料與器件研究與生產(chǎn)的高科技企業(yè)。目前注冊(cè)資金9300萬美元,總投資超過10億元。

  晶能光電擁有的硅襯底氮化鎵基LED材料與器件技術(shù)是一項(xiàng)改寫半導(dǎo)體照明歷史的顛覆性新技術(shù),具有原創(chuàng)技術(shù)產(chǎn)權(quán),迄今為止已申請(qǐng)或獲得國際國內(nèi)各種專利200多項(xiàng)。更多詳情請(qǐng)點(diǎn)擊http://m.k3610.cn


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